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準(zhǔn)分子激光器
高相干性準(zhǔn)分子激光器在布拉格光柵光纖刻寫(xiě)中的應(yīng)用
材料來(lái)源:Coherent           錄入時(shí)間:2012-1-4 21:47:54

布拉格光柵光纖在光通訊領(lǐng)域及以光纖為載體的光傳感領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用。在全球化的城市市政工程對(duì)于拉力,壓力以及溫度等參數(shù)監(jiān)測(cè)的巨大需求的驅(qū)動(dòng)下,以光纖為載體的光傳感系統(tǒng)突破了諸多電子傳感器的限制逐漸成為一個(gè)主流方向。采用布拉格光纖的光傳感系統(tǒng)在這個(gè)領(lǐng)域有在明顯的優(yōu)勢(shì),如更高的傳感探測(cè)精度,更寬的拉力探測(cè)范圍以及系統(tǒng)本身更輕的重量。它們被植入監(jiān)測(cè)物體,因而不受電磁干擾以及外部惡劣環(huán)境的影響。

相干公司LPXpro 80 W 準(zhǔn)分子激光器

 

 

相干公司BraggStar 80 W工業(yè)級(jí)準(zhǔn)分子激光器

 

目前傳統(tǒng)的布拉格光纖的制備還是采用193nm或者248nm的長(zhǎng)相干長(zhǎng)度的準(zhǔn)分子激光器,采用相位掩模板刻寫(xiě)來(lái)完成。透過(guò)相位掩模版,輸出的激光光束會(huì)形成規(guī)則的干涉條紋,直接照射在光纖上。通過(guò)提高準(zhǔn)分子激光器輸出光束的空間相干性,可以在掩模板后形成更高的干涉對(duì)比度。

 

在穩(wěn)定的大尺寸光束的照射下,掩模板后的的干涉條紋刻寫(xiě)在光纖上形成了布拉格光柵,通常布拉格光柵的長(zhǎng)度在10mm。由于這種方式需要比較大的光斑尺寸,較好的光束相干性以及較高的脈沖能量,相干公司的LPXpro系列準(zhǔn)分子以其100mJ的脈沖能量成為這種靜態(tài)刻寫(xiě)方式的最佳選擇。

 

除此之外,采用小光束激光,(通常寬度1mm的光源)通過(guò)掃描的方式掃過(guò)整個(gè)掩模板,從而在光纖上實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的布拉格光柵也是一種常用的手段。掃描方式可以提供更好的靈活性,從而實(shí)現(xiàn)不規(guī)則光柵的刻寫(xiě),比如啁啾光柵。這種刻寫(xiě)方式需要激光光束就有很高的相干性以及較低的脈沖能量,相干公司的BraggStar系列產(chǎn)品就是很好的選擇。


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